CVD:在真空環(huán)境中,用化學(xué)方法使氣體在基體材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)并形成覆蓋層的方法。"/>
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PVD鍍膜與CVD鍍膜的區(qū)別發(fā)表時(shí)間:2022-03-30 08:17作者:江蘇奧崎 PVD:用物理方法(如蒸發(fā)、濺射等),在高真空環(huán)境下,使鍍膜材料汽化到基體表面,沉積成覆蓋層的方法。 與之相對(duì)的是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,簡稱PVD),指利用物理過程實(shí)現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移,將原子或分子由源轉(zhuǎn)移到基材表面上的過程。使得母體具有更好的性能。它的作用是可以使某些有特殊性能(強(qiáng)度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的母體上, |